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Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2

簡(jiǎn)要描述:Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2
BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì),工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-24
  • 訪  問(wèn)  量:904

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2


Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2

分離特定波長(zhǎng)的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值,薄膜偏振片在高能激光器的應(yīng)用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

產(chǎn)品介紹

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì),工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的S偏振和P偏振分量分開(kāi)。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2,因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍(lán)寶石激光器的基本波長(zhǎng)及其諧波,也可以用作腔內(nèi)Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號(hào)

 

代碼

波長(zhǎng)

材料

偏振效率

消光比

尺寸

420-0256E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256HE

800 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256UHT

800 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256HT

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0286

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1286

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1386

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0506E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1506E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0138E

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1138E

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-0268E

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1268E

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0298

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1298

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1398

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0528E

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1528E

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0118E

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1118E

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1478HE

1030 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

420-1248HE

1030 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1248UHT

1030 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1248HT

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0248E

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1248E

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0278

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1278

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1278HT

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1578HE

1030 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

420-1378

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0518E

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1518E

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0128E

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1128E

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1488HE

1064 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

420-1258HE

1064 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1258UHT

1064 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1258HT

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0258E

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1258E

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1288HT

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-0288

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1288

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1588HE

1064 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

420-1388

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0508E

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1508E

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0259E

1550 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1269E

1530-1570 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1399

1530-1570 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

材料

BK7, UV FS

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔徑

> 90%

入射角

56°±2°

直徑公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光損傷閾值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard, HT and UHT series)

>1000:1 (for HE series)

 

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì),工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的S偏振和P偏振分量分開(kāi)。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2,因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍(lán)寶石激光器的基本波長(zhǎng)及其諧波,也可以用作腔內(nèi)Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì),工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的S偏振和P偏振分量分開(kāi)。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2,因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍(lán)寶石激光器的基本波長(zhǎng)及其諧波,也可以用作腔內(nèi)Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

 

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