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平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)

簡要描述:平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2023-01-04
  • 訪  問  量:816

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
組件類別其他應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)


平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光潔度:

60-400

尺寸誤cha:

±0.5 mm

厚度公cha:

±0.5mm

效率:

60%~80% @閃耀波長

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2(CW)連續(xù)激光


產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

尺寸

刻線數(shù)

閃耀波長

閃耀角

378518

刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378519

刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

500nm

4°18'

378520

刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378527

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

250nm

4°18

378528

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378529

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378538

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378539

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378540

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378541

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378542

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378551

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

250nm

8°37'

378552

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378553

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378561

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378562

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378563

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378564

刻線式光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'



制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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