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Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片

簡要描述:Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片
對于大功率應用,由Ø17凈孔徑的單晶石英制成。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:952

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片


Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片

對于大功率應用,由Ø17凈孔徑的單晶石英制成。

Ø適用于大功率應用

Ø由單晶石英制成

產品型號

延遲λ/ 2

型號

中心波長

AR鍍膜范圍

延遲

通光孔徑

安裝

464-4208

1030 nm

1000-1060 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4215

800 nm

760-840 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4215D50

800 nm

760-840 nm

λ/2

Ø 40 mm

Ø 50.8 mm

464-4220

780 nm

740-820 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4232

515 nm

500-530 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4235

400 nm

380-420 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4241

343 nm

333-353 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4245

266 nm

257-275 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4246

257 nm

250-265 nm

λ/2

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

延遲λ/ 4

型號

中心波長

AR鍍膜范圍

延遲

通光孔徑

 

464-4408

1030 nm

1000-1060 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4415

800 nm

760-840 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4415D50

800 nm

760-840 nm

λ/4

Ø 40 mm

Ø 50.8 mm

464-4420

780 nm

740-820 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4432

515 nm

500-530 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4435

400 nm

380-420 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4441

343 nm

333-353 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4445

266 nm

257-275 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

464-4446

257 nm

250-265 nm

λ/4

Ø 17 mm

Ø 25.4 mm

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于緩速器圓周上的刻面

波前畸變

λ/ 10 @ 633nm

表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

平行性

<10弧秒

增透膜

R <0.5%

激光損傷閾值

100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

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