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Eksma FEMTOLINE零級(jí)雙波長(zhǎng)波片

簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE零級(jí)雙波長(zhǎng)波片
EKSMA OPTICS為Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器提供零級(jí)雙波長(zhǎng)板。當(dāng)光軸旋轉(zhuǎn)45度以輸入偏振時(shí),零級(jí)雙波長(zhǎng)波片將基本波長(zhǎng)旋轉(zhuǎn)90度,而二次諧波波長(zhǎng)的偏振保持不變。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪  問  量:928

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE零級(jí)雙波長(zhǎng)波片


Eksma FEMTOLINE零級(jí)雙波長(zhǎng)波片

這些零級(jí)雙波長(zhǎng)板用于Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器。

EKSMA OPTICS為Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器提供零級(jí)雙波長(zhǎng)板。當(dāng)光軸旋轉(zhuǎn)45度以輸入偏振時(shí),零級(jí)雙波長(zhǎng)波片將基本波長(zhǎng)旋轉(zhuǎn)90度,而二次諧波波長(zhǎng)的偏振保持不變。

型號(hào)

描述

增透膜

激光損傷閾值

應(yīng)用

465-4211

optically contacted; λ/2@800 nm + λ@400 nm

800+400 nm

>10 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical

Ti:Sapphire

466-4211

air-spaced; λ/2@800 nm + λ@400 nm

800+400 nm

100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical

Ti:Sapphire

465-4212

optically contacted; λ/2@1030 nm + λ@515 nm

1030+515 nm

>10 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 1030 nm typical

Yb:KGW/KYW

466-4212

air-spaced; λ/2@1030 nm + λ@515 nm

1030+515 nm

100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 1030 nm typical

Yb:KGW/KYW

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于緩速器圓周上的刻面

通光孔徑

Ø17mm

環(huán)安裝外徑

25.4mm+ 0.0 / -0.12mm

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

波前畸變

λ/ 10 @ 633nm

平行性

<10弧秒

增透膜

R <0.5%

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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